援引俄羅斯塔斯社最新消息，俄羅斯自研的首臺光刻機已經制造完成，目前正在進行測試。

       俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里·什帕克（Vasily·Shpak）告訴媒體：“我們制造并組裝了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒（莫斯科衛星城）技術生產線的一部分，該設備可確保生產350nm的芯片！”

       盡管350nm甚至比現階段全球主流成熟制程工藝都落后不少，但在俄羅斯看來，它仍然能在汽車、能源和電信等諸多行業中發揮不小的應用價值。

       值得一提的是，據說俄羅斯的這臺光刻機成本只需要500萬盧布（當前約合人民幣 40萬），要知道目前ASML的同類光刻機動輒幾千萬甚至上億人民幣。如果該消息屬實的話，表明俄羅斯在自主發展半導體技術的道路上取得了巨大突破。

       俄羅斯將生產光刻機：2024年350nm，2026年65nm

       此前，俄羅斯政府啟動了一項國家計劃，計劃到2030年自研出28nm工藝的芯片，對盡可能多的外國芯片進行逆向工程，并培養本土人才從事國產芯片替代工作。

       俄羅斯最先進的晶圓廠只能生產采用65nm制造技術的芯片，而且用的都是歐美的設備。俄羅斯科學院微結構物理研究所副所長尼古拉·奇卡洛表示，作為光刻技術的知名企業，ASML已研發其EUV光刻系統近20年，該技術已被證明非常復雜。

       而且，晶圓設備不僅限于光刻機。還需要有其他類型的設備用于執行蝕刻、沉積、光刻膠去除、計量以及檢查操作，此外還有一些不太先進的機器，例如超純空氣和水發生器，這些機器都是來自于西方市場。也就是說，即使俄羅斯成功制造出光刻機，仍需要數百臺設備來建造一座現代化晶圓廠，而目前西方已經徹底切斷了對俄羅斯的供應。

       但無論如何，俄羅斯為了實現半導體產業自主可控，首先加大了對光刻機領域的投入和支持，盡管目前350nm的工藝并不先進，但對于戰時的俄羅斯已經非常重要了，特別在意義上。

       其實，2023年瓦西里·什帕克在接受俄新社采訪時就表示，俄羅斯將在2024年生產350nm國產光刻機，2026年研制出130nm光刻機。

       “很明顯，如果不走完全程，就不可能一次性制造出薄拓撲結構的設備，” 瓦西里·什帕克表示：“目前世界上只有兩家公司擁有這種光刻技術：荷蘭的ASML和日本的尼康，沒有其他公司能做到這一點。”不過現在我們已經踏上了這條道路，不是在孤軍奮戰，這場競賽已經開始，他補充道。

       瓦西里·什帕克認為，所有其他微電子器件，包括微控制器、電力電子器件、電信電路、汽車電子以及許多其他器件，因為技術和成本的原因，將在未來許多年內對 65~350nm的工藝保持需求，而且占市場的60%。

       俄羅斯工業和貿易部并不覺得沒有掌握更先進的工藝有什么問題，他們認為≤45nm的工藝只對處理器和存儲器有意義，而這些只占10%~15%。這臺光刻機的問世不僅可以使其一定程度擺脫西方制裁，更給予了俄羅斯國內極大的信心，未來將大幅減少對外依賴。
       2016年首次研發成功以來，ASML已向全球客戶賣出了兩百多臺EUV設備，其中臺積電最多，而且該設備需要頻繁維護，如果沒有ASML的備件，它們很快就會停止工作。