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真空蒸發鍍工藝程序和操作要點

關鍵詞 真空 , 蒸發鍍|2011-06-28 15:59:22|制造技術|來源 中國磨料磨具網
摘要 基體(磨料),蒸發器(坩堝),真空室(鐘罩和鋁箔或鋁板制成的內鐘罩)的鍍前清潔處理與安裝準備→抽真空→真空凈化處理(磨料和真空容器內表面,用真空加熱法或電子束,離子束轟擊法凈化處理...
  基體(磨料),蒸發器(坩堝),真空室(鐘罩和鋁箔或鋁板制成的內鐘罩)的鍍前清潔處理與安裝準備→抽真空→真空凈化處理(磨料和真空容器內表面,用真空加熱法或電子束,離子束轟擊法凈化處理,方法與處理聚晶用的金剛石相同)→蒸發材料的預熔(除去吸附的氣體和低熔點雜質)→蒸鍍→停機取料。
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真空蒸發原理要點

1.真空(條件)真空蒸鍍是以真空技術為基礎的一種表面處理方法,必須在一定的真空條件下進行。2.材料(對象)成膜材料一般是金屬或合金。膜的基體(鍍件)既可以是金屬,也可以是非金屬。基體形狀可以是片狀,粉粒狀等各種形狀。...

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真空蒸發鍍的定義

真空蒸發鍍是將真空容器內放置的蒸發物質加熱蒸發,并使蒸發的粒子凝固在被鍍基體表面上而形成薄膜的方法。真空蒸發鍍也稱為真空蒸鍍、真空熱蒸發鍍、真空蒸發鍍膜等,它是最早出現的真空鍍膜方法。

日期 2011-06-29   基礎知識

真空離子鍍過程包含如下四個要點

1.在一定的真空條件下進行。2.成膜材料蒸發。可以采用真空蒸鍍相同的蒸發方法,還可以采用空心陰極型電子束法和真空電弧法。3.蒸發的成膜材料部分電離。電離方式,可以利用惰性氣體等離子體(例如直流輝光放電法,空心陰極法)...

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真空離子鍍定義

在一定的真空狀態下,將從蒸發源蒸發的粒子部分地離子化,并和其余的中性粒子一起沉積在基體上而形成鍍層的技術,稱為真空離子鍍,簡稱離子鍍。也可稱為真空離子蒸鍍。

日期 2011-06-29   基礎知識

真空濺射鍍定義

高能離子或中性原子碰撞物體表面,使表面的原子或原子脫離物體的現象,稱為濺射或噴濺。由低壓氣體放電產生的正離子碰撞陰極表面而發生的濺射,稱為陰極濺射。利用磁控管進行的陰極濺射,稱為磁控陰極濺射,簡稱磁控濺射。利用上述濺...

日期 2011-06-28   基礎知識

真空蒸發原理要點如下

1.真空(條件)真空蒸鍍是以真空技術為基礎的一種表面處理方法,必須在一定的真空條件下進行。2.材料(對象)成膜材料一般是金屬或合金。膜的基體(鍍件)既可以是金屬,也可以是非金屬。基體形狀可以是片狀,粉粒狀等各種形狀。...

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真空蒸發鍍是將真空容器內放置的蒸發物質加熱蒸發,并使蒸發的粒子凝固在被鍍基體表面上而形成薄膜的方法。真空蒸發鍍也稱為真空蒸鍍、真空熱蒸發鍍、真空蒸發鍍膜等,它是最早出現的真空鍍膜方法。

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