磁性陰極濺射比普通陰極濺射具有以下優(yōu)點
關(guān)鍵詞 磁控濺射|2011-06-28 16:03:16|基礎(chǔ)知識|來源 中國磨料磨具網(wǎng)
摘要 1.成膜速率提高(電離率高,放電電流大)。2.基體溫升降低。3.磁控濺射的空間局限于靶與基體之間,粒子到達基體的準(zhǔn)確度高,不需要的部位沒有。因此真空容器容易清洗,操作方便。4.膜層...
1. 成膜速率提高(電離率高,放電電流大)。 2. 基體溫升降低。 3. 磁控濺射的空間局限于靶與基體之間,粒子到達基體的準(zhǔn)確度高,不需要的部位沒有。因此真空容器容易清洗,操作方便。 4. 膜層致密,并且與基體結(jié)合力強。這是因為磁控濺射產(chǎn)生的靶原子的能量高。 |
① 凡本網(wǎng)注明"來源:磨料磨具網(wǎng)"的所有作品,均為河南遠(yuǎn)發(fā)信息技術(shù)有限公司合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明"來源:磨料磨具網(wǎng)"。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
② 凡本網(wǎng)注明"來源:XXX(非磨料磨具網(wǎng))"的作品,均轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé)。
③ 如因作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題需要同本網(wǎng)聯(lián)系的,請在30日內(nèi)進行。
※ 聯(lián)系電話:0371-67667020