自從直流電離子鍍出現以來，隨著電真空技術的發展，新的離子鍍方法和設備不斷出現，按照離子化方式分類，離子鍍方法有直流放電法、高頻放電法、空心陰極型電子束法、熱電子活化法、多陰極活化法、絡離子束法、活性反應法、真空電弧法等。
　　除一般離子鍍外，還有一種特殊的離子鍍法——活性反應離子鍍。該法實質上不屬于PVD法，而是等離子CVD法，可以通過活化反應制取TIC、TIN等硬質化合物膜層，還可以制取金剛石或立方氮化硼薄膜。后者屬于制造超硬材料的一種新方法——氣相薄膜生長法。