摘要 項(xiàng)目介紹:隨著激光器性能的不斷提高,在眾多的薄膜制備方法中,PLD技術(shù)的應(yīng)用最為廣泛,可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜,...
項(xiàng)目介紹: 隨著激光器性能的不斷提高,在眾多的薄膜制備方法中,PLD技術(shù)的應(yīng)用最為廣泛,可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜,甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜,如金剛石、立方氮化物膜等,并取得了很大的成功。
工作原理:
在制膜腔內(nèi),用透鏡將一束強(qiáng)脈沖激光匯聚成一個(gè)很小的光斑,打在靶材料上,受到激光光斑照射的靶材料瞬時(shí)被氣化、電離,形成一團(tuán)等離子體,高速向外噴射,從而在襯底上沉積形成一層薄膜。
系統(tǒng)構(gòu)成:
(1)、準(zhǔn)分子激光器
(2)、PLD沉積系統(tǒng)