比利時微電子研究中心（IMEC）是世界上納米微電子和納米技術領先研究單位之一,其研究方向集中在下一代芯片、系統和智能環境技術上。在半導體技術方面，IMEC擁有先進CMOS技術、 III-V和有機半導體平臺。根據IMEC所確定的發展戰略,2003-2005年研發45納米CMOS技術,2005-2007年研發32納米微電子技術。IMEC的納米研究包括納米CMOS和納米電子新裝置、從微電子機械系統向納米電子機械系統過渡、開發納米材料和納米成型技術、使用和改善納米掃描探頭、界面功能確定、自行組裝、分子內部連接和分子電子、研究生物標本與固體裝置之間界面的化學和電子特性、自裝分子層信號傳輸等。目前IMEC正在研究把電子旋轉技術與硅電子結合起來。
　　
　　193納米浸入光刻技術是實現45納米以下COMS關鍵技術。浸入光刻是指在曝光鏡頭和硅片之間充滿水而不是空氣。對于193納米光刻來說,水是最佳液體。但浸入光刻技術仍有很多不確定性,如對置于水中的硅片和光刻性能帶來的影響,磨料中水吸附如何進行CD控制、模樣外形控制等。
　　
　　在半導體工業中使用浸入光刻技術已引起廣泛注意,人們預測193納米浸入光刻技術將取代157納米光刻技術成為45納米以下半導體生產新一代光刻技術。從1998年開始，IMEC與日本東京電子有限公司（TEL）合作開發193納米光刻技術。
　　
　　IMEC為加速45納米以下微電子技術的開發, 與世界10大設備供應商確定協議，協議的簽署使得IMEC能在最先進的設備條件下進行研究與開發。在193納米浸入光刻技術方面,IMEC與世界上30個芯片制造商、工具供應商和軟件供應商等組成合了作聯盟。該聯盟中IMEC的合作伙伴ASML公司的 TWINSCANtm XT:1250i是目前世界上浸入工具(0.85)含量最高裝置。IMEC 將使用該工具進行曝光, 印刷新密度為7ONM,聚焦深度為0.7μM。雙方希望通過合作加速光刻技術從干法向濕法的過渡,早日實現193浸入光刻技術的工業化應用。